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ITO（氧化銦錫）靶材

時間：2025-03-18 來源:原創(chuàng) 瀏覽量:212
作用：
氧化錫是ITO靶材的關鍵成分之一（通常占10%），它與氧化銦（In?O?）燒結成靶材，用于濺射透明導電薄膜層。
純度和粒度：
純度：通常要求4N（99.99%）以上，高端應用則需要5N（99.999%）。
粒度：納米級（20-100nm），以確保濺射形成的薄膜具有均勻的導電率和透光率。
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公司郵箱 nanoaito@163.com
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